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PRODUCTS CNTER復雜型面掃磨拋光機YH2M81116A 所有能接觸到拋光液的液槽、箱體面板、接液盆,均采用不銹鋼或鋁合金等耐腐蝕材質。
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復雜型面掃磨拋光機YH2M81116A主要特點
該套設備同時具備了工件盤的公轉運動和自轉運動,同時拋光盤升降運動通過伺服電機及滾珠絲杠驅動,提高了生產效率,延長了耗材使用壽命,提升了工件良率。
本機工件盤、拋光盤均由獨立的變頻器控制變頻電機實現無極調速,以滿足不同拋光工藝要求。同時拋光盤的加壓由伺服電機驅動滾珠絲杠在直線導軌上進行位移,精確控制拋光盤位移,保持壓力穩(wěn)定,確保拋光精度。
本機所有能接觸到拋光液的液槽、箱體面板、接液盆,均采用不銹鋼或鋁合金等耐腐蝕材質。
設備真空系統配置有數顯真空壓力表,實時監(jiān)控負壓,以防欠壓掉片。
設備配置真空氣液分離裝置,自動排液;
本機采用人機界面HMI(15寸大觸摸屏)與可編程控制PLC相結合,操作方便快捷,界面友好,信息量大。
復雜型面掃磨拋光機YH2M81116A主要用于鋁合金、不銹鋼等金屬材料和玻璃、陶瓷等非金屬材料的平面及2.5D和3D弧面的掃磨拋光,具有效率高,穩(wěn)定性好,工件良率高等優(yōu)點。
YH2M81116A技術參數
項目Item 產品型號Model | 單位 Unit | YH2M81116A |
Lower plate尺寸(外徑×厚度) Lower plate size(OD×Thickness) | mm | φ400mm×35mm(鋁合金) φ400mm×35mm(Aluminum alloy) |
上盤尺寸(外徑) Upper plate size(OD) | mm | φ1135mm |
拋光頭數量 Number of polishing head | 個 | 5 |
工件盤自轉轉速 Workpiece plate rotation speed | rpm | 2~45±2 rpm |
工件盤公轉轉速 Workpiece plate revolution speed | rpm | 1~12 rpm |
拋光盤轉速 Polishing plate rpm | rpm | 2~90±2rpm |
拋光盤升降行程Polishing plate lifting stroke | mm | 350mm |
機床外形尺寸(長×寬×高) Overall dimensions(L*W*H) | mm | 1900×1500×2800mm |
整機重量 Total weight | Kg | 3000Kg |