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研磨拋光機(jī)控制元器件均采用24V電源,PLC電源采用隔離變壓器供電,降低外界電網(wǎng)雜波干擾提高了機(jī)床的安全性。
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研磨拋光機(jī)主要用途:
主要用于大尺寸玻璃的平面拋光。
研磨拋光機(jī)技術(shù)特點(diǎn):
1.該機(jī)為單拋光頭型拋光機(jī),工件吸附于上拋光盤(pán)。
2.下上盤(pán)轉(zhuǎn)數(shù)均可由數(shù)控程序控制,按工藝要求實(shí)現(xiàn)無(wú)級(jí)變速,滿足不同拋光工藝要求。
3.上拋光頭由低摩擦氣缸通過(guò)電氣比例閥精確控制拋光壓力,對(duì)lying underwall上的工件施壓,確保拋光精度。
4.下拋光盤(pán)安裝在托盤(pán)上,通過(guò)合理的支撐設(shè)計(jì),保證了工件盤(pán)的端面跳動(dòng)和拋光時(shí)的剛性。
5.上拋光盤(pán)通過(guò)氣缸來(lái)實(shí)現(xiàn)翻轉(zhuǎn)功能,方便上下料。
6.上拋光盤(pán)的移動(dòng)采用伺服電機(jī)滾珠絲杠進(jìn)行直線移動(dòng)的方式,負(fù)荷分布合理,移動(dòng)平穩(wěn),穩(wěn)定性好。
7.采用人機(jī)接口與可編程控制PLC相結(jié)合,操作方便快捷。
8.用觸摸屏做為人機(jī)接口顯示報(bào)警和機(jī)床狀態(tài)的實(shí)時(shí)信息;接口友好,信息量大。
9.控制元器件均采用24V電源,PLC電源采用隔離變壓器供電,降低外界電網(wǎng)雜波干擾提高了機(jī)床的安全性。
主要技術(shù)參數(shù):
項(xiàng)目 | 單位 | 參數(shù) |
下研拋光尺寸(外徑×厚度) | mm | Φ1800 × 100 |
上研拋光尺寸(外徑 | mm | Φ1250 |
拋光壓力 | MPa | 反壓0~800kg |
下拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速 | rpm | 5~68 無(wú)級(jí)調(diào)速 |
上拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速 | rpm | 5~68 無(wú)級(jí)調(diào)速 |
下拋光盤(pán)電機(jī) |
| 功率18.5kw,額定轉(zhuǎn)速1440rpm |
上拋光盤(pán)電機(jī) |
| 功率3kw,額定轉(zhuǎn)速 1450rpm |
加壓氣缸(缸徑×行程) | mm | Φ160 x 250 |
翻轉(zhuǎn)氣缸(缸徑×行程) | mm | Φ200 x 350 |
外型尺寸(約:長(zhǎng)×寬×高) | mm | 3000 x 2450 x 2500 |
設(shè)備質(zhì)量 | kg | 9000 |
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