單面研磨拋光機

產(chǎn)品簡介

單面研磨拋光機宇環(huán)數(shù)控YH2M8192C3控制元器件均采用24V電源，PLC電源采用隔離變壓器供電，降低外界電網(wǎng)雜波干擾了機床的安全性。

產(chǎn)品型號：YH2M8192C3

更新時間：2024-11-15

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

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品牌	宇環(huán)數(shù)控/YUHUANCNC	產(chǎn)地	國產(chǎn)

單面研磨拋光機宇環(huán)數(shù)控YH2M8192C3主要用途:主要用于2.5D手機玻璃的弧面拋光。

單面研磨拋光機宇環(huán)數(shù)控YH2M8192C3機技術(shù)特點:

1、四工位上盤真空吸附拋光機。

2、利用真空吸附將工件固定在治具上。將羊毛毯固定在下盤表面，利用羊毛毯羊毛、拋光液與玻璃之間的摩擦力實現(xiàn)對玻璃弧面的拋光。

3、本機上下盤均可由數(shù)控程序控制，按工藝要求實現(xiàn)無極變速，以滿足不同拋光工藝要求。

4、采用電氣比例閥精確控制拋光壓力，確保拋光精度。

5、上拋光盤由調(diào)速電機驅(qū)動，一個氣缸控制其升降及加壓。

6、本機采用人機界面HMI與可編程控制PLC相結(jié)合，操作方便快捷，提高了工作效率。

7、用觸摸屏做為人機界面顯示報警和機床狀態(tài)的實時信息；介面友好，信息量大。

8、控制元器件均采用24V電源，PLC電源采用隔離變壓器供電，降低外界電網(wǎng)雜波干擾了機床的安全性。

宇環(huán)數(shù)控YH2M8192C3主要技術(shù)參數(shù)：

項目 Item	單位 Unit	參數(shù) Specs
下工件盤尺寸（外徑×厚度） Size of Lower working plate(OD*T)	mm	Φ914×35
上拋光盤尺寸Size of upper polishing plate(OD)	mm	360
拋光頭數(shù)量polishing head qty	pcs	4
拋光壓力（氣壓）反壓Polishing pressure	MPa	0—0.4
下拋光盤轉(zhuǎn)速Rotational speed of lower polishing plate	rpm	0～150 rpm(無極調(diào)速)
上拋光盤轉(zhuǎn)速Rotational speed of upper polishing plate	rpm	0～200 rpm(無極調(diào)速)
下拋光盤電機Motor of Lower plate	rpm	功率7.5KW，額定轉(zhuǎn)速：1440rpm
上拋光盤電機Motor of Upper plate		功率1.5KW，額定轉(zhuǎn)速：1450rpm
加壓氣缸（缸徑×行程）Pressurized cylinder(bore*stroke)	mm	Φ140×450
外型尺寸（約：長×寬×高）Overall dimension (LWH)	mm	1650×1450×2570
整機重量Total weight	kg	2300